靶標是用于測試光電成像系統(tǒng)時創(chuàng)建參考圖像的模塊。Inframet提供的靶標可分為兩類:1)無源靶標,2)有源靶標。無源靶標需要由黑體或標定光源產(chǎn)生均勻光束照射,生成參考圖像模式的圖像。這些靶標通常是大型測試系統(tǒng)位于平行光管焦平面的小模塊。無源靶標的工作不需要電力供應。
更新時間:2024-07-04
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